近日，我院申怀彬教授团队系统总结了胶体量子点直接光刻技术的最新进展与挑战，相关成果以“Direct Photopatterning Strategies for Ultrafine Quantum Dot Pixel Arrays and Micropatterned Light-Emitting Diodes”为题，发表在物理领域国际知名期刊Laser & Photonics Reviews上（Laser & Photonics Reviews, 2026, 20(7): e02328）。

论文链接：https://doi.org/10.1002/lpor.202502328

量子点（QD）图案化技术在各种光电器件（如发光二极管、生物传感器及光电探测器）中的实际应用一直是研究的热点。尤其是，直接光图案化的超精细QD像素阵列因制备工艺简单、像素质量优越、器件兼容性优良等特性被视为高质量显示的有力候选者之一。本文综述了胶体QD直接光刻技术的最新进展，详细介绍了不同种类的直接光刻方法，包括光刻胶/复合物自固化类型、配体交换/剥离/裂解类型、配体/添加剂交联类型及直接光诱导的QD图案技术。此外，本文还讨论了这些方法在micro-LED显示和电致发光型图案化QD-LEDs中的应用及未来的趋势和前景。

河南大学纳米科学与材料工程学院为论文第一通讯单位，硕士研究生赵一丹和代胜歌为论文共同第一作者，申怀彬教授、王书杰教授和邹世界博士为论文通讯作者。本工作得到了国家自然科学基金、国家重点研发计划、河南省自然科学基金等项目的大力支持。