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研究进展

研究进展

杜祖亮教授课题组在 Nanotechnology 发表了利用纳米压印技术构筑间距可控的100纳米以下纳米电极的研究成果

来源: 河南大学材料学院    日期:2015-10-31   浏览次数:

最近,杜祖亮教授课题组报道了利用双层胶剥离技术结合纳米压印构筑100纳米以下间距可控的纳米电极的工作,这种改进的纳米压印技术为我们提供了一种大面积,低成本制备间距可控的纳米电极的方法,有望为纳米电子学的发展起到一定的促进作用。该研究工作发表在Nanotechnology201526185301SCI二区,IF=3.821)上。http://iopscience.iop.org/article/10.1088/0957-4484/26/18/185301

我们在传统的纳米压印技术中引入了双层胶剥离技术(PMGIPMMA共同作为转移层)来构筑100纳米以下间距可控的纳米电极。首先通过纳米压印技术在上转移层PMMA上得到等比例的纳米电极图案,然后通过对下转移层PMGI显影时间和显影液浓度的控制来调控其特征尺寸的大小,最终达到电极间距可控的目的。结果分析表明,在对下转移层显影过程中会出现“undercut”现象,通过控制“undercut”的尺寸可以有效的缩小和调控纳米电极的间距电极模板的间距分别为800 nm400 nm200 nm100 nm的电极经过纳米压印和双层胶剥离以后,其电极间距可控,并且最小电极间距可分别缩小为440 nm120 nm80 nm70 nm, 同时电极的转移厚度也得到了极大的提高(150 nm)。通过这种改进的纳米压印技术可以用来制备间距可控的纳米电极,且电极的尺寸特征不再受限于模板的尺寸特征,大大降低了纳米压印技术的成本,有望为纳米电子学的发展起到有益的促进作用。

 

 

     


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